金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜pvd厂与您分享pvd真空蒸发镀膜
01、定义
pvd真空蒸发镀膜是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
02、真空蒸发踱膜主要经历
1、采用各种能源方式转换成热能, 加热膜材使之蒸发或升华, 成为具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的气态粒子(原子、分子和原子团);
2 、离开膜材表面,具 有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面;
3、到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜;
4、组 成 薄 膜 的 原子重组排列或产生化学键合;
03、原理及特点
原理:
热蒸发是在真空状况下,将所要蒸锻的材料利用电阻加热达到熔化温度,使原子蒸发,到达并附着在基板表面上的一种锻膜技术。
特点:
设备简单、操作容易
海膜纯度高,质量好, 厚度可控
速率快、、可用掩膜 获得清晰图形
薄膜生长机理比较单纯
缺点:
不易获得结晶结构的薄膜
粘膜与基片附着力小
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真空镀膜pvd厂与您分享电子产业真空涂层不仅在五金、塑料机械行业的刀模具上得到应用,其表面硬度高、光洁度好、精密度高等诸多性能使其在电子行业也同样倍受青睐。例如端子刀片、IC封装模、PCB加工的微铣微钻、PCB孔冲压模、金手具等, 在这些产品上涂层不仅解决了使用者的诸多困扰,还为他们带来了更多的效益。
优点:
涂层厚度很薄,可满足电子业高精密度的要求完全环保,满足各种安规要求(如RoHS指令)提高工具或零件的耐磨性,保证产品质量的稳定性
真空镀膜材料工艺流程
原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装
溅射镀膜和蒸发镀膜的对比:
溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术之一,各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用,因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,溅射靶材亦已成为目前市场应用量 PVD 镀膜材料。 蒸发镀膜简单便利、操作方便、成膜速度快。从工艺制造角度上来看,蒸镀材料的制造复杂度要远远低于溅射靶材,蒸发镀膜常用于小尺寸基板材料的镀膜。
PVD基本方法:真空蒸发、溅射bai 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。
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