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真空蒸镀原理将被镀薄膜基材（筒状〕装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。能真正做到隔绝潮气、风沙灰尘，还能在海上运输中，有效防止海水的盐碱侵蚀。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在25～500nm，镀铝薄膜的宽度为800mm～2000mm。

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。现在常用的定量检测方法是在一定的温度、压力和时间下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9%左右）与镀铝膜的镀铝层进行热封，将热封后的样品裁成15mm宽，在拉力试验机上进行剥离试验，观察并记录剥离力的大小以及镀铝层被剥离的面积。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。本着以质取胜、以人为本、精益求精、严格管理的方针，大力加强科技投入，资源配置和新产品开发，为需求群体提供优质的镀铝膜，努力扩大市场网络，争创国内实力产品。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。华福包装材料有限公司自成立以来，坚持以“科技立业，诚信为本，质量赢客户”为广大需求群体提供优质的镀铝膜。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。

怎么测量镀铝膜的厚度、牢度、均匀度

1、通常采用下述三种方法来测量镀铝膜的厚度：

A.光密度法:即以光线透过镀铝膜的密度来测量。用光密度法测量镀铝膜的厚度方便、准确。

B.采用表面方块电阻测量法，这种方法比较简单实用。通常来说，铝层厚度对应的表面电阻一般在1~2之间。

C.目测估算法：即把两层镀铝膜叠在一起对着日光灯或天空看，以看不见的光线为准，镀层厚度应达400Å以上。

2、镀铝牢度

一般是用胶带来检测镀铝牢度的。

具体方法为：把长约15cm的胶粘带贴在镀铝面上并用手指压平，然后用一只手压住样品，另一只手匀速剥离胶粘带，再用带强光的灯箱检验铝层脱落转移的情况便可。

或者把一种特别制备的试验膜与PET镀铝膜按一定的热封条件热封，裁样后再用拉伸试验机剥离，测定剥离力并检查热封面积中的铝层转移情况。

3、镀铝膜镀层的均匀度

电阻层电阻的偏差，实际就是反映了镀铝层的均匀度。表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，具有价廉、美观及较好的阻隔性能，目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医l药、化妆品的外包装上。沿被测样品横向等距离地取8~10个规格为100mm×100mm的试样，用电阻测量仪分别测出方块的电阻值，取其算数平均值，即为该试样的镀层电阻，再计算其电阻值的上、下偏差，便可知道镀铝膜镀铝层的均匀度。

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