充电宝标牌曝光显影企业货真价实「利成感光」克拉恋人剧情介绍

物理显影既可在定影之前进行，亦可在定影之后进行。”虽然如此，但是PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。所谓定影之后进行，即先把乳剂层中的卤化银溶去后再作显影，但必须使用弱碱性的定影液，因酸性定影液对银有一定的溶解能力，从而会破坏已形成的潜影。物理显影的优点是生成的银粒细腻，可供高倍放大，影调层次也较为丰富。缺点是显影液不够稳定，可引起感光度下降，故较难掌握

显影液碱性的强弱是决定显影速度和影像反差的主要条件，而显影速度的快慢很大程度上影响着影像颗粒的粗细。pH值高的显影液，显影较快，获得的颗粒就较粗。反之，欲获得细小颗粒效果，须采用弱碱性的显影液。

常使用的保护剂是亚硫酸钠Na,SO，，俗称硫氧粉，有无水物Na,SO，和结晶水化物Na,SO，.7H,0之分，照相丘以无水Na,SO，为主当以结晶水化物代替无水物时，应以两倍的重量取代之。配成显影液和亚硫酸共存时保存性能好，对漠化钾温度反应较小，它和海多吉浓在同程度上对比，不易污染底片。除此之外，还有亚NaHSO，或焦亚硫酸钾K,S,0，等。

在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格产品。

曝光显影技术优势

1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；

2、图形转印技术单层、多层套印精度高；

3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用图形转印技术，良率较高；

5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；

6、较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率