连山供应电话外壳曝光显影加工服务至上「利成感光」庆余年人物详细介绍

此外，还要求能溶于水，本身及其氧化产物不含毒性等条件。5H,0）俗称大苏打或海波，为无色透明的单斜晶体，易溶于水，水溶液呈弱碱性，遇强酸会析出硫和氧化硫。以上条件仅是一般的要求，如果作为性能良好的显影剂来说，还应有更严格的要求，即显影速度快、还原银的颗粒细腻、灰雾度小、化学性能稳定以及显影容量大等等，当然要在一种显影剂上完全具备上述条件是很困难的，因其中有些要求本身是互相矛盾的。还原太慢或在还原过程中不能区分曝光和未曝光卤化银的还原剂都不能作为显影剂。例如Na,SO，和SnCl，等化学上都是很好的还原剂，可是由于亚硫酸钠还原卤化银的速度太慢；而氯化亚锡的还原能力又太强，它不仅能使已曝光的卤化银还原，同时也能使未曝光的卤化银还原，因此终得不到清晰的影像。

显影液中放入适量的化钾，不但可以起到较好的抑制灰雾的作用，而且还可以增加影像的反差。但是，如果加入的量太多或由于显影生成的比物的累积增多，将使显影速度降低、密度降低，感光度下降，细部层次也有所损失。

感光材料显影一定时间，出现了清晰可见的影像后，这时必须将感光材料从显影液中取出，马上进行水洗或用停显液漂洗，除去显影液，使显影停止下来这一过程叫停显。如果径向误差分析显示这种情况，需要通过调整掩模版显影高度来对周边进行补偿。如果后面使用的定影液是酸性定影液，则这一步常常被水洗所代替。停显液是酸性水溶液，常用的有醋酸、硼酸、硫酸等，一般都使用弱酸。

工艺工序

清洗——中和——三连水洗——阳极氧化——水洗——中和——二连水洗——染色——二连水洗——封孔——二连纯水洗——干燥——下挂全检

曝光显影工序：壳件抛光——喷涂感光油墨——曝光显影——去除非保护区油墨——喷砂——次阳极氧化——镭雕出导电位——二次氧化

总结：曝光氧化在二次氧化 工艺前添加抛光和曝光显影工艺。