显影工艺是怎样?
前工站加工的玻璃进入显影设备,对需要去除的油墨进行化学反应,进行剥离,然后进行表面清洗,形成高精度的油墨3D盖板。显影操作需控制好显影液的温度、传送速度、喷淋压力等参数。
曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。曝光不足,导致单体聚合不,那么在显影过程中,会使的胶膜变软,线条不清晰,色泽暗淡,脱胶。曝光过度,会造成难显影,留有残胶。同时曝光影响图案的线宽,过量曝光会使图形线条变细,尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力,但是其性能仍然与正胶有比较大的差距,所以提出负显影(Negative Tone Develop,NTD)。用负显影工艺可以实现较窄的沟槽,负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中显影:将曝光后的硅片浸泡在显影液中,在此过程中,光刻胶会在掩膜中没有被曝光的部分(即需要去除的图案区域)中被消蚀,并暴露出硅片表面。曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力,但是其性能仍然与正胶有比较大的差距,所以提出负显影(Negative Tone Develop,NTD)。原文链接:http://www.tolin.cn/gy/39575.html,转载和复制请保留此链接。
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