电子电镀就是用于电子产品制造的电镀过程,它是电子产品制造加工的重要环节,在很大程度上体现了电子制造业的技术水平。因电子产品要求的特殊性,因此电子电镀又有别于传统电镀。电子电镀技术是现代微电子制造中不可缺少的关键技术之一。从芯片上的大铜互连电镀技术,封装中电极凸点电镀技术,引线框架的电镀表面处理到印制线路板、接插件的各种功能电镀,电子电镀已渗入到整个微电子行业,且在微机电(MEMS)、微传感器等微器件的制造中还在不断的发展。
决定电镀层质量的内部因素;零部件的预处理镀层同零部件表面间的结合紧密程度、美观性以及防腐能力的好坏,都同零部件表面的预处理工作质量有着密不可分的联系。零部件表面残留的油污、金属氧化皮、锈迹,阻碍了电镀层同金属零部件表面的接触,会对电镀质量造成极大的影响。如果镀件表面存在着十分薄的油膜或氧化膜,尽管电镀层的外观不会受到太大的影响,也会大大的削弱电镀层的结合力。故而,妥善的落实零部件的预处理工作,是获得电镀产品的重要前提。在预处理工作中,应该使用配置好适宜浓度的除油、除污、除锈洗液,并且及时去除溶液表面漂浮的油污。随着使用过程廷长,液中杂质含量增加,清洗能力会不断的降低,因此在处理时必须定期更换。电镀液中不同成分的配比需要维持在佳的电镀工艺范围之内,在电镀生产中,必须对槽内的药液含量定期的开展化验分析工作,确保其中各组分配比处于工艺允许的范围之中;其次,基于生产任务量的不同及时的根据化验分析补充各种成分,在电镀液中杂质含量超过适宜的范围之前,及时的处理和净化电镀液,以使得电镀液维持在适宜的操作范围内。此外,在电镀过程中,基于多种不同的原因,会将有害杂质混入到电镀液之中。由于这些杂质的种类和特性各不相同,以及同种杂质对于不同电镀液造成的影响程度也不相同,要结合实际的电镀生产情况,利用赫氏槽,分析具体情况下对电镀液性能以及电镀层质量造成的影响,及时处理电镀液中杂质。电镀工艺条件的控制;电镀工艺条件的控制在很大的程度上决定了电镀层的质量。因此合理的控制好不同电镀任务的工艺条件,是提升镀层质量的关键,这就需要实际工作经验。电流密度、温度、pH环境等电镀工艺参数的调节和选取十分重要。以镀铬为例,当出现电流密度和温度条件不适合时,对电镀液的阴极电流效率、镀层紧密度和外观都有明显的影响。在温度偏高的情况下,应该酌情的提升电流密度,以达到适宜的镀层要求。各条件会互相制约,所以无法正确合理的控制工艺条件,就会极大的影响电镀产品的整体质量。原文链接:http://www.tolin.cn/gy/87318.html,转载和复制请保留此链接。
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