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真空镀膜
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
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真空镀膜应用
真空蒸镀金属是继电镀等表面处理法之后，根据对包装和装饰材料膜类的表面处理的需要而发展起来的一种颇具生命力的、可适用于多种被蒸镀基材的表面处理工艺。1先采用的方法是将金属加热汽化后，再冷凝在基材上。工艺过程全部在抽成一定真空(例如其剩余压力为标准大气压的1/1000000)的密闭容器中进行。另外，要求其被蒸镀的基材表面必须极平整洁净，使附着面积和附着力完全符合要求，以保证所镀金属制品的表面质量。
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真空镀膜开发成功
此外，此种技术和设备除上述 以外的诸多优点为:1.从开、收卷装置处的大气压环境至真空镀金属炉中的高真空状态，其间共经6个阶段，是逐渐提高其真空度的，每一阶段中的某种程序的真空度差异并不影响后的真空度。因此，采用此种设备能使被蒸镀条状材在镀金属室中作连续运行。其运行速率可以调节。